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BAO Mask Avenger是一款AE的高级遮罩脚本，这款脚本可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点，同时在三维空间做路径动画。

拉姆预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效

通过插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这一点。

3D面具。 Mask Avenger现在可以在3D中控制蒙版，而无需使用空图层和表达式。

然后更快地计算掩模，并简化表达式写入。

背景烘焙。当需要修改蒙版时，蒙版复仇者会立即对其进行转换

当前时间，并在后台烘烤工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作

而面具复仇者正在忙着烘焙。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。

更好地塑造层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新烘焙而消失系统。

工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然，

烘焙100,000个关键帧需要超过10个，但新的烘焙系统允许您继续工作

而它正在烘烤。

不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的掩蔽功能，运行速度更快。

面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统，可以动态地显示它们之前的变化

适用于面具。这可以避免在表达式，其他图层或相机修改蒙版时出现延迟。

关键帧，缓动，表达式和3D空间。

您可以选择仅使用顶点或完全控制切线。

集成脚本将帮助您使用表达式并将掩码点链接到Null图层。

通过简单的拾取 - 鞭子表达式将掩码顶点链接到跟踪器点。

使用“冻结”模式与没有Mask Avenger的用户共享您的项目。

智能插补模式：基于重心的体积守恒或独立的可关键点锚点。

与“自由变换”蒙版工具集成。

Mask Reader：读取遮罩路径上任意点的位置和方向数据。

Shape Avenger：使用Mask Avenger来塑造图层。

Mask Avenger是一个原生的After Effects插件。

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